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Machine de planarisation et polissage pour la microélectronique E400E

Machine de planarisation et polissage pour la microélectronique E400E - ALPSITEC

Machine de planarisation et polissage pour la microélectronique E400E - Machines à polir

Machine de planarisation et polissage pour la microélectronique E400E - produit présenté par ALPSITEC

Machine de planarisation et polissage pour la microélectronique E400E

Machines à polir

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Introduisant la Machine de planarisation et polissage pour la microélectronique E400E d'ALPSITEC, cette marvel de technologie est conçue pour apporter une réponse performante et économique aux laboratoires de R&D travaillant sur la microélectronique et les nanotechnologies. Compacte et rentable, elle est adaptée pour des procédés de polissage et de planarisation sur des wafers et portions de wafers de petites tailles (jusqu'à 4 pouces).

1. Ultra-performante : La E400E dispose des mêmes paramètres de procédé que les machines de planarisation et polissage plus grandes. Elle assure un contrôle par ordinateur doté d'un écran tactile, 10 pas de polissage avec paramètres indépendants, et offre des fonctionnalités avancées tels que le multi-abrasifs, le conditionnement du pad in-situ et ex-situ, le vide et la pression face arrière sur wafer, sans oublier l'échange rapide des plateaux de polissage et des portoirs de wafers.

2. Idéalement compacte : Sa petite taille : 740 mm x 850 mm x 920 mm et son poids de 126 kg, font de la E400E une solution idéale pour les laboratoires disposant d'un espace limitée. Sa compacité n'impacte en rien les performances élevées qu'elle offre.

3. Economiquement avantageuse : La E400E représente une solution hautement rentable pour les laboratoires qui recherchent une machine de planarisation et polissage de grande qualité sans être obligés d'investir dans un modèle plus coûteux. Sa consommation énergétique est aussi de faible échelle : 2,8 kW à 220 V.

4. Polyvalente et facile à utiliser : Adaptée pour la microélectronique et les nanotechnologies, la E400E est particulièrement utile pour les wafers jusqu'à 4 pouces. Son contrôle par ordinateur équipé d'un écran tactile permet une manipulation aisée et précise. Sa facilité d'utilisation fait d'elle un outil précieux pour n'importe quel laboratoire de R&D.

Offerte par ALPSITEC, la E400E est une solution de polissage et planarisation industrielle compacte, performante et économiquement avantageuse pour les activités de microélectronique et de nanotechnologie.

Caractéristiques

Dimensions : 740 mm x 850 mm x 920 mm Poids : 126 kg Puissance installée : 2,8 kW Tension : 220 V Taille maximale des wafers : 4 pouces Contrôle : Contrôle par ordinateur avec écran tactile Nombre de pas de polissage : 10 Fonctionnalités : Multi abrasifs, conditionnement du pad in-situ et ex-situ, vide et pression face arrière sur wafer, échange rapide des plateaux de polissage et des portoirs de wafers.