“ L'ellipsomètre Woollam Alpha-SE™ est un instrument compact et simple d'usage. L'Alpha-SE™ combine la méthode RCE (Rotating Compensator) avec une acquisition rapide par détection CCD. Cela permet des mesures rapides (quelques secondes) de tout le spectre. ”
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L'ellipsomètre spectroscopique Woollam Alpha-SE™ est la solution parfaite pour la caractérisation de couches minces : mesures d'épaisseur, mesures d'indice de réfraction de couches minces. Il s'agit d’un instrument presse-bouton particulièrement simple à utiliser : placement de l’échantillon, démarrage de la mesure et obtention de l’épaisseur en 3 secondes.
Facile à utiliser
Instrument presse-bouton fourni avec un logiciel d’analyse doté de modèles intégrés qui font le travail pour l’utilisateur.
Puissant
L’Ellipsométrie Spectroscopique permet d’obtenir simultanément l’épaisseur et l’indice de couches minces avec une précision et certitude inégalé
Flexible
Mesure tout type de matériau - diélectriques, semi-conducteurs, organiques, etc.
Rapide
Acquisition du spectre complet en quelques secondes
With fast measurement speed and push-button operation, the alpha-SE® is ideal for qualifying thin films. Single-layer dielectrics on silicon or glass substrates can be measured in seconds. Log results for easy-to-use comparisons in both graphical and tabular formats.
Self-Assembled Monolayers
Phase information of a spectroscopic ellipsometry measurement is highly sensitive to very thin films (<10 nm). For example, self-assembled monolayers can be measured and quickly compared using the alpha-SE.
For Absorbing Films
Advanced models allow quick and efficient fits for a wide variety of absorbing materials you may encounter.
Coatings on Glass
Patented technology allows accurate measurements on any substrate: metal, semiconductor, or glass. For transparent substrates, the alpha-SE® simultaneously measures depolarization to correct for light returning from the backside of the substrate. This unwanted light can confuse other ellipsometers, but the alpha-SE ensures accurate thickness and optical constants.
Photovoltaics
Film thickness and optical properties are critical to performance of solar devices. Ellipsometry is used for development and monitoring of all PV materials: a-Si, µc-Si, poly-Si, AR Coatings (SiNx, AlNx…), TCO Films (ITO, ZnOx, doped SnO2, AZO), CdS, CdTe, CIGS, organic PV materials, and dye sensitized films.
Display
Measurements of a-Si, poly-Si, microcrystalline-Si, OLED layers, color filters, ITO, MgO, polyimide, and liquid crystals are beneficial during diaplay R&D and production.
Caractéristiques :
Usage ex-situ (goniomètre 4 positions fixes)
Ellipsomètre à compensateur tournant (RCE)
Conception compacte, robuste et précise
Tarif avantageux
Automatisation en Z
Usage ex-situ (goniomètre 4 positions fixes)Ellipsomètre à compensateur tournant (RCE)Spectral Range 380 nm to 900 nm, 180 wavelengthsSystem Overview Patented rotating compensator technology with CCD detectionAngle of Incidence 65°, 70°, 75° or 90° (straight-through)Data Acquisition Rate : 3 sec. (Fast mode); 10 sec. (Standard mode); 30 sec. (High-precision mode)Beam Diameter : Collimated: ~3 mm; Focused: ~0.3 mmWeight 18 kilograms excluding computer