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Pompe turbo moléculaire : STP-XA3203C ISO320F

Pompes à vide électrique

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Connaissez-vous la pompe Turbo Moléculaire STP-XA3203C ISO320F d’EDWARDS SAS ? Il s’agit d’un équipement industriel de référence, spécialement conçu pour relever les défis dans plusieurs secteurs, comme l’implantation, la lithographie et la gravure de semi-conducteurs, ainsi que les procédés LCD.

1. Cette pompe est réputée pour offrir un débit optimisé pour tous les gaz. Elle a donc la capacité à prendre en charge tout type de gaz en volume variable, ce qui fait d'elle un outil de premier choix pour les entreprises recherchant une solution flexible et adaptable à leurs divers besoins.

2. La STP-XA3203C ISO320F se distingue par ses performances élevées dans une plage de pressions de procédé allant du vide poussé à 2300 sccm. Elle garantit ainsi une efficacité incontestable, quelle que soit la pression d'exercice.

3. Son atout majeur réside dans sa position de montage indifférente. Cela signifie qu'elle peut être installée dans n'importe quelle orientation, ce qui offre une plus grande flexibilité dans l'organisation de l'espace de travail et facilite son intégration dans différents environnements industriels.

4. Enfin, cette pompe turbo moléculaire fonctionne au mieux de ses performances dans une gamme de température allant de 5 à 25 °C (41 à 77 °F). Elle intègre en plus une plateforme améliorant la gestion thermique, assurant ainsi une meilleure durabilité et une plus longue durée de vie.

En termes techniques, la pompe STP-XA3203C ISO320F se caractérise par un débit de 3 l/min, pression de 0,3 MPa, une pression de refoulement maximale admissible de 266 Pa et une pression limite de 10^-7 Pa. Le temps de montée en régime de l'appareil est de 8 min et sa vitesse nominale est de 27 500 tr/min. Elle requiert une tension d’alimentation de 200 à 240 (± 10) V c.a.

La pompe turbo moléculaire STP-XA3203C ISO320F se présente donc comme un choix sûr et performant pour toutes les applications industrielles nécessitant un vide poussé et une haute performance. Sa polyvalence, combinée à ses caractéristiques techniques, en fait un outil indispensable pour les professionnels de l'industrie.

Débit : 3 l/min Débit recommandé de gaz de purge : 50 sccm Pression : 0,3 MPa Pression de refoulement maximale admissible : 266 Pa Pression limite : 10^-7 Pa Temps de montée en régime : 8 min Vitesse nominale : 27 500 tr/min Tension d’alimentation : 200 à 240 (± 10) V c.a.

Semi-conducteurs Implantation Lithographie Gravure Industriel Procédés

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