Pompe à vide très poussé : STP301, admission ISO100, sortie KF25

Découvrez la Pompe à vide très poussée STP301, un équipement industriel de premier choix conçu pour répondre aux exigences des applications de semi-conducteurs et des microscopes électroniques. Avec son admission ISO100 et sortie KF25, elle offre une technologie de rotor avancée qui promet des performances exceptionnelles pour une flexibilité maximale des processus.

1. Performance supérieure : La pompe à vide très poussée STP301 est dotée d'une technologie de rotor avancée. Celle-ci lui confère des performances exceptionnelles qui permettent une manipulation flexible du processus de vide. L'outil a une vitesse nominale impressionnante de 48 000 tr/min. Cette vitesse permet à la pompe d'atteindre sa pression limite rapidement, démontrant l'efficacité et la performance du produit.

2. Diversité des applications : La pompe STP301 convient à une variété de tâches, incluant la gravure plasma, la gravure ECR, le dépôt de couches (CVD, PECVD, ECRCVD, MOCVD), et la pulvérisation. Ce large champ d'application fait de la STP301 un équipement indispensable pour les industries nécessitant une variété de processus sous vide.

3. Performances énergétiques optimisées : La pompe STP301 est conçue pour économiser l'énergie. Au démarrage, elle ne consomme que 0,55 kVA, ce qui signifie qu'elle réduit le coût énergétique d'une entreprise tout en soutenant ses efforts de durabilité.

4. Conception de haute qualité : La pompe à vide très poussée STP301 est conçue pour résister aux conditions les plus difficiles. Elle peut fonctionner à des températures allant jusqu'à 120 °C à la bride d'aspiration, et elle maintient une pression stable lorsqu'elle est en fonctionnement. De plus, cet équipement est léger, avec une pompe pesant 11 kg et un contrôleur de 7 kg, ce qui facilite son transport et son installation.

En somme, la Pompe à vide très poussée STP301 combine performances exceptionnelles, polyvalence, efficacité énergétique et conception de haute qualité pour répondre aux besoins des industries les plus exigeantes. Générant un vide ultra-poussé grâce à sa technologie de rotor avancée, elle soutient une multitude d'applications, allant du dépôt de couches à la pulvérisation pour optimiser les processus industriels. Son fonctionnement économe en énergie en fait un choix responsable pour les entreprises conscientes de leur empreinte environnementale.