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Présentation

Le Milieu Laser F d'OSYRIS est conçu pour répondre efficacement à vos besoins industriels spécifiques. En exploitant une gamme de longueurs d'onde et de niveaux de puissance, ce produit offre une performance supérieure, une flexibilité remarquable et une longue durée de vie.

1.Polyvalence exceptionnelle : Le Milieu Laser F d'OSYRIS est compatible avec un large éventail de lasers, dont les ArF, KrCI, KrF, XeCI, N2, XeF et excimères. Cette compatibilité riche vous offre la liberté d'appliquer cette technologie dans des contextes variés sans compromis sur la performance.
2.Haute Performance : Ce produit promet une énergie par impulsion allant jusqu'à 5.5 mJ. Il est également capable de fournir une puissance de sortie allant jusqu'à 550 mW, ce qui entraine une productivité accrue et des résultats exceptionnels dans tous vos projets.
3.Durabilité remarquable : Grâce à sa durée de vie de gaz impressionnante, allant jusqu'à 10^7 impulsions, le Milieu Laser F garantit une utilisation prolongée, minimisant les frais de maintenance et d'entretien.
4.Fiabilité affirmée : Fourni par OSYRIS, un nom de confiance dans la technologie laser, ce produit assure une robustesse et une fiabilité éprouvées – d'autant plus essentiel en raison de la technicité et des conditions exigeantes des applications industrielles.

Le Milieu Laser F se distingue aussi par sa gamme de longueurs d'onde à choix incluant 157, 193, 222, 248, 308, 337 et 351 nm et des valeurs d'énergie par impulsion respectivement à 0.5, 3.5, 0.5, 5.5, 3, 0.3 et 2 mJ. La puissance moyenne dépend de la longueur d'onde choisie, offrant une plage allant de 30 mW à 550 mW pour une flexibilité maximale.

Ce produit est indispensable à une gamme d'applications potentielles comme le micro-usinage, l'ablation laser, la photolithographie, la recherche scientifique et diverses applications médicales. Pour plus de détails sur comment le Milieu Laser F OSYRIS peut être adapté à vos exigences spécifiques, n'hésitez pas à contacter notre équipe. Transformez vos opérations avec l'efficacité du Milieu Laser F.

Caractéristiques

Longueurs d'onde : 157 nm, 193 nm, 222 nm, 248 nm, 308 nm, 337 nm, 351 nm Energie par impulsion : 0.5 mJ, 3.5 mJ, 0.5 mJ, 5.5 mJ, 3 mJ, 0.3 mJ, 2 mJ Puissance moyenne : 50 mW, 350 mW, 50 mW, 550 mW, 300 mW, 30 mW, 200 mW Durée de vie du gaz : 10^6, 10^6, 10^7, 10^6, 10^7, 10^7, 10^6 impulsions Compatibilité : ArF, KrCI, KrF, XeCI, N2, XeF, excimères Applications : Micro-usinage, ablation laser, photolithographie, recherche scientifique, applications médicales Polyvalence : Répond à divers besoins d'applications laser Fournisseur : OSYRIS, leader reconnu dans le domaine des lasers