Groupe de vide CEPIC

Découvrez le Groupe de vide CEPIC, une solution industrielle innovante proposée par CEPIC SAS. Cet ensemble d'appareils statiques allie performance et fiabilité pour obtenir un vide précis et adapté à vos besoins process.

1. Une résistance à toute épreuve : La conception unique du Groupe de vide CEPIC utilise la Carbonite®, une résine de graphite imprégné dont l'utilisation assure une résistance maximale à la corrosion. Cet équipement robuste vous garantira une longévité indéniable, réduisant potentiellement vos coûts de maintenance et de remplacement.

2. Capacité d'adaptation : Qu'il s'agisse de gaz nécessitant une débit entre 2,5 kg/h à 100 kg/h (air), ou de fluides moteur sous forme de vapeur ou de liquide non visqueux, le Groupe de vide CEPIC sait s'adapter. De plus, ses éjecteurs indépendants réalisés en Carbonite® ainsi qu'en matières plastiques (du DN20 au DN300) lui permettent de répondre à une grande variété de besoins industriels.

3. Performances hautes: La pression résiduelle peut atteindre jusqu’à 1 millibar, un niveau très bas reflétant un vide de grande qualité. Cette performance est cruciale pour les professionnels de l’industrie nécessitant des niveaux de vide précis pour leurs processus de fabrication, garantissant une qualité de production optimale et constante.

4. Tolérance aux températures élevées : Le Groupe de vide CEPIC a la capacité de gérer des fluides aspirés avec des températures allant jusqu'à 200°C. Cette caractéristique en fait un outil précieux pour les industries travaillant avec des fluides à haute température, renforçant leur efficacité et leur sécurité.

Le Groupe de vide CEPIC de CEPIC SAS est une solution industrielle conforme aux exigences les plus strictes de l'industrie. Il allie robustesse, flexibilité et performance pour vous permettre d'optimiser vos processus de fabrication avec une précision et une fiabilité inégalées. Que vous travailliez dans l'industrie chimique, alimentaire ou autre, choisissez l'excellence et la sérénité avec l'offre CEPIC.