Encre de réserve de gravure UVER7

Découvrez l'encre de réserve de gravure UVER7 d'ADT, un produit innovant spécialement conçu pour les environnements industriels de fabrication de circuits imprimés. Cette encre se distingue par sa capacité à offrir une résistance exceptionnelle aux solutions de gravure acides et alcalines. Prête à l'emploi et sans solvant, elle constitue une solution de choix pour les professionnels exigeants.

1. Résistance chimique exceptionnelle : L'encre UVER7 est formulée pour résister aux solutions de gravures de pH inférieur à 9,5, en faisant un choix pertinent pour divers procédés de gravure industrielle. Par exemple, elle assure la protection des circuits imprimés face aux attaques chimiques couramment rencontrées dans ces processus.

2. Facilité de retrait : Une fois la gravure terminée, le film protecteur formé par l'encre UVER7 peut être facilement retiré avec une solution aqueuse de pH supérieur à 12. Cette propriété garantit un processus de nettoyage rapide et efficace, réduisant ainsi le temps de production global.

3. Imprimabilité à haute précision : Grâce à sa fluidité et à sa thixotropie interne, l'encre UVER7 permet des impressions fines et précises, même à grande vitesse. Les utilisateurs peuvent l'utiliser aussi bien sur des surfaces plates que sur des cylindres, ce qui en fait un outil versatile pour divers projets.

4. Utilisation polyvalente : En plus des circuits imprimés, cette encre est adaptée pour des applications sur verre et métaux, facilitant le dépolissage du verre et la protection de substrats métalliques dans diverses industries.

L'encre de réserve de gravure UVER7 allie résistance chimique, précision et polyvalence, répondant aux besoins essentiels des industries utilisant le marquage par gravure. Grâce à sa formulation innovante et à sa facilité d'utilisation, ce produit assure une protection optimale tout en simplifiant le processus de fabrication. Demandez dès maintenant un devis pour bénéficier de ses nombreux avantages dans votre environnement de travail.