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Additif au polissage LogiPol 35 | LOGITECH LTD

Additifs industriels

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Le LogiPol 35 est un additif spécifique à base d'hypochlorite de sodium conçu pour améliorer le polissage des wafers de semi-conducteurs III-V et II-VI. En le mélangeant avec des suspensions à base d’alumine ou de silice colloïdale, vous obtiendrez un taux de polissage optimisé. Cet additif de 4 litres est essentiel pour ceux qui recherchent des performances accrues dans le traitement des wafers.

1. Amélioration du taux de polissage : Augmente l'efficacité du processus sur les semi-conducteurs III-V et II-VI.

2. Compatibilité élevée : Se mélange parfaitement avec des suspensions d'alumine ou de silice colloïdale.

3. Formule spécialisée : Sa composition à base d'hypochlorite de sodium garantit des résultats optimaux.

4. Conditionnement pratique : Disponible en conteneurs de 4 litres pour une utilisation industrielle.

Le LogiPol 35 est la solution idéale pour ceux qui cherchent à maximiser l'efficacité du polissage de leurs wafers. Sa compatibilité et son efficacité en font un allié précieux pour le traitement des semi-conducteurs. Pour découvrir comment cet additif peut bénéficier à votre entreprise, n'hésitez pas à demander un devis.

Nos conseils d'utilisation :

Utilisez le LogiPol 35 en le mélangeant soigneusement avec les suspensions adéquates pour garantir une efficacité maximale. Assurez-vous que le polissage est effectué dans un environnement contrôlé pour éviter toute contamination. Vérifiez régulièrement les taux de polissage pour ajuster la concentration si nécessaire.

Contenu: 4 Litres Composition: Additif à base d'hypochlorite de sodium Compatibilité: Semi-conducteur III-V et II-VI Utilisation: Polissage de wafers Compatibilité fluide: Alumine ou Silice colloïdale

Electronique Automobile Aérospatiale Médical Optique Mécanique

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