Micro-électronique : Vers la nanolithographie

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Micro-électronique : Vers la nanolithographie



Nec utilise un procédé interférentiel proche de l'holographie pour former des géométries extrêmement petites sur un substrat. La technique d'interférométrie par faisceau d'électrons consiste à dédoubler le faisceau avec un prisme et à ramener les deux faisceaux ainsi produits sur un substrat sensible, lequel enregistre leur réseau d'interférences.Les chercheurs de Nec ont démontré la possibilité d'imprimer une géométrie répétitive d'une période de 100nanomètres.

USINE NOUVELLE N°2487

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