Ils s'équipent

Voici quelques exemples de sociétés qui viennent de compléter l'équipement de leurs bureaux d'études. Leurs responsables nous expliquent leurs motivations. Cette semaine : STMicroelectronics ; Michael Kors ; Benjamin Muyl.



STMicroelectronics intègre la fabrication dès la conception avec Calibre LFD

STMicroelectronics a choisi la plate-forme DFM (design for manufacturing) Calibre de Mentor Graphics comprenant Calibre LFD (Litho-Friendly-Design) pour l'analyse de la variabilité provenant des procédés lithographiques de fabrication en 65 nm et au-delà. Cette annonce fait suite à une longue période d'évaluation des solutions du commerce par STMicroelectronics en termes de précision, de rapidité et de capacité à s'intégrer aux flots de conception existants. Cette décision s'appuie sur la relation entre STMicroelectronics et Mentor, qui a débuté avec l'utilisation des outils Calibre OPC à 130 nm, et qui s'est poursuivie pour tous les procédés suivants, y compris à 45 nm.




« Une analyse efficace de la variabilité d'un procédé de fabrication exige une modélisation très précise de celui-ci. Les modèles utilisés par la solution Calibre LFD se sont avérés précis à 65 et 45 nm », estime Joël Hartmann, directeur de la division Silicon Technology Development de STMicroelectronics. « De plus, la solution Calibre facilite le réétalonnage des modèles et facilite l'évolution des paramètres lors de la mise production d'une nouvelle technologie ».

La plate-forme Calibre DFM propose un flot complet et intégré de conception qui permet un meilleur contrôle de la variabilité des procédés de fabrication. Elle offre une modélisation précise du comportement du procédé lithographique en réponse aux variations de dose d'exposition, de la défocalisation, du traitement RET (Resolution Enhancement Technology) et des caractéristiques de gravure. Et comme elle est totalement intégrée au composant Calibre LVS (Layout vs. Schematic), les dimensions critiques des transistors peuvent être extraites sur la base des géométries des contours modélisées avec LFD. Les paramètres ainsi obtenus, qui reflètent les géométries réelles, peuvent être ajoutés à un modèle Spice pour produire une simulation temporelle précise du produit final.

« Nous avons choisi Calibre LFD pour caractériser la variabilité car la prédiction précise des variations induites par l'étape lithographique à travers la fenêtre de procédé est essentielle à notre flot DFM avancé », constate quant à lui Philippe Magarshack, vice-président du groupe Technology R&D et directeur général de la division Central CAD & Design Solutions de STMicroelectronics. « Calibre LFD fournit une combinaison optimale de rapidité et de précision élevée, plus une excellente intégration avec le reste du flot de conception Calibre utilisé par ST ».

Grâce à la précision de l'outil Calibre LFD, les utilisateurs ont l'assurance que les défauts lithographiques détectés sont de véritables limiteurs du rendement de fabrication et que les paramètres extraits des transistors ne sont pas des valeurs idéalisées mais reflètent bien le comportement réel du silicium. Les concepteurs peuvent ensuite améliorer le layout en sachant que leurs efforts auront un impact réel sur le rendement de fabrication. L'intégration avec le système de placement-routage Olympus-SoC de Mentor Graphics permet une correction automatique des défauts lithographiques détectés par Calibre LFD, et ce au moment de la création du design, rendant ainsi l'offre globale très efficace. Calibre LFD va être intégré dans les Design Kits certifiés de STMicroelectronics et déployé auprès des concepteurs ST du monde entier.

Sites des entreprises citées :
http://www.st.com
http://www.mentor.com


Michael Kors développe ses activité avec Enovia MatrixOne

Michael Kors, le créateur américain de prêt-à-porter, de sportswear et d'accessoires de luxe, a choisi la solution Enovia MatrixOne Apparel Accelerator for Design & Development, pour soutenir le développement rapide de ses activités. Avec cette solution, dont la mise en Å“uvre a débuté la fin du premier trimestre, Michael Kors dispose des processus nécessaires pour continuer à innover et à garantir la qualité de ses produits, tout en poursuivant sa croissance.

« Au cours des quatre dernières années, nous avons connu une croissance sans précédent. Cette tendance devrait se poursuivre avec le développement de notre réseau de distribution et le lancement de nouvelles lignes. Du point de vue économique et stratégique, il était important que nous trouvions une solution de gestion du cycle de vie des produits pouvant être mise en Å“uvre rapidement, avec une plate-forme ouverte facile à intégrer à d'autres applications, et qui puisse évoluer en fonction de nos exigences futures », explique Gia Castrogiavanni, présidente du prêt-à-porter et des accessoires Femme chez Michael Kors.


Compte tenu de la diversité des lignes (prêt-à-porter, accessoires, parfums et linge de maison), il était essentiel que Michael Kors puisse s'appuyer sur une solution capable de gérer les interactions avec les fournisseurs, tout en exploitant la complexité de développement des nouveaux produits dans un environnement soumis à une croissance rapide. L'approche d'Enovia MatrixOne est adaptée pour relever ce défi, dans la mesure où elle permettra à Michael Kors de déployer rapidement une infrastructure commune, automatisant et intégrant les données techniques, les processus industriels et les flux de développement tout au long de la durée de vie des produits.

« Outre le fait qu'elle réponde à tous nos critères-clés, nous avons choisi la technologie Enovia MatrixOne parce qu'elle a démontré son aptitude à relever des défis similaires auprès de marques de renommée mondiale et en raison des succès remportés dans le textile et l'habillement, notamment dans les domaines de la fabrication et de la vente de détail », estime Joseph Desantis, CIO de Michael Kors.

Sites des entreprises citées :
http://www.michaelkors.com
http://www.3ds.com/fr/


Benjamin Muyl met le cap sur NX de Siemens PLM Software

L'ingénieur et architecte naval Benjamin Muyl vient de signer un partenariat avec Siemens PLM Software. Il souhaite s'appuyer désormais étroitement sur NX6, afin de continuer à développer des projets toujours plus innovants. Son objectif est de repousser les records de performances des voiliers qu'il conçoit. Convaincu des atouts du logiciel de Siemens PLM Software en termes de conception, de modélisation et de simulation, il a été séduit par un fonctionnement possible de la solution dans un univers Mac. Benjamin Muyl souhaite, en outre, promouvoir l'usage de NX auprès de ses collaborateurs architectes navals et ingénieurs tel que Guillaume Verdier ou auprès des équipes des skippers.

En tant qu'ingénieur et architecte naval, Benjamin Muyl a commencé sa carrière au sein de la société VPLP, spécialisée dans la conception de multicoques de compétition et de grande plaisance. Au sein de cette société, il a notamment travaillé sur Géronimo, le bateau d'Olivier de Kersauzon et sur l'Hydroptère d'Alain Thébault. Il y découvre les logiciels de CAO et de simulation numérique (IAO) de Siemens PLM Software. Séduit par l'interface utilisateur facile à utiliser et par les fonctionnalités avancées dans le design et la modélisation des maquettes, il souhaite poursuivre son expérience avec cet outil. En 2008, après avoir créé une société indépendante de conception d'architecture navale en Espagne et alors qu'il se prépare à en lancer une autre en France, Benjamin Muyl souhaite s'armer d'une solution de CAO sur laquelle il pourra capitaliser.

« Il nous faut toujours innover et repousser les limites de nos projets pour que nos voiliers répondent aux exigences des skippers et concrétisent leurs objectifs de vitesse et de performance », constate Benjamin Muyl. « Nous devons donc continuellement revoir nos architectures. Des solutions qui nous permettent de modéliser et faire des simulations pour continuellement améliorer nos maquettes sont donc stratégiques, afin que nous livrions dans un minimum de temps des voiliers avec un potentiel maximal ».


Entre 2004 et 2007, Benjamin Muyl et Guillaume Verdier ont conçu les structures du bateau Areva Challenge pour la 32e Coupe de l'America. En 2001, ils ont également participé à la conception de l'hydraplaneur Médiatis Région Aquitaine d'Yves Parlier avec Romaric Neyhousser. Ce bateau a battu le record de nombre de milles parcourus en 24h, en solitaire. Benjamin Muyl a donc l'expérience des aventures technologiques inédites.

Les fonctionnalités avancées de la solution NX, notamment en termes de simulation en font un outil performant pour la conception des bateaux de course. Les outils de simulation numérique intégrés à NX proposent en effet une solution performante et associative de maillage, de définition des conditions aux limites, d'analyses multi-physiques et post traitement. Toute modification des paramètres de conception entraîne une mise à jour automatique du processus de simulation, ce qui permet de pouvoir tester et valider plusieurs concepts en un temps record. Les capacités des solveurs multi-physiques NX Nastran et NX Flow permettent de simuler l'ensemble des comportements des bateaux avec, par exemple, l'analyse de structure linéaire et non-linéaire, la gestion de matériaux composites et le contrôle de l'écoulement ou d'une surface libre (définition de la forme des coques et appendices). Benjamin Muyl s'appuie également sur les fonctionnalités de gestion de la cinématique avec NX Motion pour repousser toujours plus loin les limites de performance de ses bateaux.

« J'ai été séduit par les fonctionnalités avancées de la solution NX en simulation et en modélisation, mais également par son interface intuitive », précise Benjamin Muyl. « Les solutions de Siemens PLM Software offrent, par ailleurs, des perspectives intéressantes que je suis en train d'étudier. C'est le cas, par exemple, avec le format d'échange de données produits JT dont j'évalue le potentiel. De plus, NX est l'une des seules solutions du marché à fonctionner en univers Mac ce qui me permet de rester dans un environnement informatique que j'apprécie tout particulièrement ! »

Sites des entreprises citées :
http://www.siemens.com/plm

Jean-François Prevéraud

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