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IBM repousse les limites de la photolithographie

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Record battu pour les chercheurs de l'équipe californienne d'IBM : ils ont gravé de manière optique des lignes de 29,9 nanomètres sur du silicium.

Ils étendent ainsi le champ des possibilités de la gravure traditionnelle des puces électroniques par photolithographie. Jusqu'ici, il semblait y avoir une limite à ses capacités, avec une finesse de 45 voire 32 nm. En effet, la longueur d'onde de la lumière du laser qui sert à la gravure est de 193 nm, donc beaucoup plus grande que la taille du motif désiré.

Les chercheurs d'IBM ont utilisé en fait les franges d'interférences produites par l'intersection de deux rayons laser combinées avec des lentilles à haut indice de réfraction afin de réduire la longueur d'onde.

J.-P. V.

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