- Schnell trocknender, positiver Photoresist-Lack in Aerosolform.
- Zur Reproduktion von Schaltungen, Abbildungen, Leiterplatten, Schildern und Diagrammen.
- Feine Auflösung bis zu 0,1 mm, wird mit UV-Licht oder Sonnenlicht entwickelt.
- Ideal für die Prototypenherstellung.